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X熒光膜厚儀用途

更新時間:2020-04-13

簡要描述:

X熒光膜厚儀(yi) 用途一次X射線穿透金屬元素樣品時·產(chan) 生低能量的光子,俗稱為(wei) 二次熒光,,在通過計算二次熒光的能量來計算厚度值,一種無損、快速、精確的膜厚測試儀(yi) 器,對金屬鍍層(鍍金、鍍錫、鍍鋅、鍍鋁、鍍鉛、鍍銀、鍍鎳等),廣泛應用於(yu) 電路板、連接器、金屬絲(si) 、鏈接插件、引線框架、汽車零部件、半導體(ti) 、電子產(chan) 品、五金工具等企業(ye) 中,打破了國外(例如:德國Fischer)壟斷局麵,在電鍍行業(ye) 占有 一定地位,為(wei) 企業(ye) 提

X熒光膜厚儀(yi) 產(chan) 品介紹

 

X熒光膜厚儀(yi) 是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時·產(chan) 生低能量的光子,俗稱為(wei) 二次熒光,,在通過計算二次熒光的能量來計算厚度值,一種無損、快速、精確的膜厚測試儀(yi) 器,對金屬鍍層(鍍金、鍍錫、鍍鋅、鍍鋁、鍍鉛、鍍銀、鍍鎳等),廣泛應用於(yu) 電路板、連接器、金屬絲(si) 、鏈接插件、引線框架、汽車零部件、半導體(ti) 、電子產(chan) 品、五金工具等企業(ye) 中,打破了國外(例如:德國Fischer)壟斷局麵,在電鍍行業(ye) 占有 一定地位,為(wei) 企業(ye) 提供有效解決(jue) 方案。

 

X熒光膜厚儀(yi) 技術參數

 

*工作穩定性高,故障率低。

多變量非線性回收程序

相互獨立的基體(ti) 效應校正模型

元素分析範圍從(cong) 硫(S)到鈾(U)中間的任意金屬鍍層(鍍金、鍍錫、鍍鋅等)

一次可同時分析多達五層鍍層,快速、準確。

zui薄可測試0.005μm

分析含量一般為(wei) 2ppm99.9% 

鍍層厚度一般在50μm以內(nei) (每種材料有所不同)

任意多個(ge) 可選擇的分析和識別模型

度適應範圍為(wei) 15℃30℃

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流淨化穩壓電源

儀(yi) 器尺寸:576W) x 495 D) x 545H) mm

重量:90 kg

 

X熒光膜厚儀(yi) 用途性能優(you) 勢

 

鼠標可控製移動平台,鼠標點擊的位置就是被測點

高分辨率探頭使分析結果更加精準

良好的射線屏蔽作用

測試口高度敏感性傳(chuan) 感器保護

滿足各種不同厚度樣品以及不規則表麵樣品的測試需求

zui小φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求

高精度移動平台可精確定位測試點,重複定位精度小於(yu) 0.005mm

采用高度定位激光,可自動定位測試高度

定位激光確定定位光斑,確保測試點與(yu) 光斑對齊

 

X熒光膜厚儀(yi) 用途檢測實例

 

銅鍍鎳樣品

 鋁業(ye) 網圖片

X熒光膜厚儀(yi) 用途測試譜圖

 

樣 品 名

成分Ni(%)

鍍層Ni(um)

吊扣

100

19.321

吊扣2#

100

19.665

吊扣3#

100

18.846

吊扣4#

100

19.302

吊扣5#

100

18.971

吊扣6#

100

19.031

吊扣7#

100

19.146

平均值

100

19.18314

標準偏差

0

0.273409

相對標準偏差

0

1.425257

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