鍍層膜厚儀，金屬鍍層測厚儀

鍍層膜厚儀(yi) ，金屬鍍層測厚儀(yi) 技術指標

分析元素範圍：硫（S）～鈾（U）

同時檢測元素：多24個(ge) 元素，多達5層鍍層

分析含量：一般為(wei) 2ppm到99.9%

鍍層厚度：一般在50μm以內(nei) （每種材料有所不同）

SDD探測器：分辨率低至135eV

*的微孔準直技術：小孔徑達0.1mm,小光斑達0.1mm

樣品觀察：配備全景和局部兩(liang) 個(ge) 工業(ye) 高清攝像頭

準直器：0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與(yu) Ф0.3mm四種準直器組合

儀(yi) 器尺寸：690（W）x 575（D）x 660（H）mm

樣品室尺寸：520（W）x 395（D）x150（H）mm

樣品台尺寸：393（W）x 258 （D）mm

X/Y/Z平台移動速度：額定速度200mm/s 速度333.3mm/s

X/Y/Z平台重複定位精度：小於(yu) 0.1um

操作環境濕度：≤90%

操作環境溫度：15℃～30℃

鍍層膜厚儀(yi) ，金屬鍍層測厚儀(yi) 工作原理

膜厚儀(yi) 又叫膜厚計、膜厚測試儀(yi) ，可分為(wei) 磁感應鍍層測厚儀(yi) 、電渦流鍍層測厚儀(yi) 與(yu) 熒光X射線儀(yi) 鍍層測厚儀(yi) 。 它的主要測量方法是采用磁感應原理時，利用從(cong) 測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體(ti) 的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與(yu) 之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。

磁性測厚法的膜厚儀(yi) 是一種超小型測量儀(yi) ，它能快速，無損傷(shang) ，地進行鐵磁性金屬基體(ti) 上的噴塗。電鍍層厚度的測量。可廣泛用於(yu) 製造業(ye) ，金屬加工業(ye) ，化工業(ye) ，商檢等檢測領域。特別適用於(yu) 工程現場測量。

二次熒光法的測厚儀(yi) 的原理是物質經X射線或粒子射線照射後，由於(yu) 吸收多餘(yu) 的能量而變成不穩定的狀態。從(cong) 不穩定狀態要回到穩定狀態，此物質必需將多餘(yu) 的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀(yi) 或成分分析儀(yi) 的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析。

性能優(you) 勢

1.精密的三維移動平台

2.的樣品觀測係統

3.*的圖像識別

4.輕鬆實現深槽樣品的檢測

5.四種微孔聚焦準直器，自動切換

6.雙重保護措施，實現無縫防撞

7.采用大麵積高分辨率探測器，有效降低檢出限，提高測試精度

全自動智能控製方式，一鍵式操作!

開機自動自檢、複位；

開蓋自動退出樣品台，升起Z軸測試平台，方便放樣；

關(guan) 蓋推進樣品台，下降Z軸測試平台並自動完成對焦；

直接點擊全景或局部景圖像選取測試點；

點擊軟件界麵測試按鈕，自動完成測試並顯示結果。