更新時間:2020-04-13
儀(yi) 器全年工作,具有優(you) 異的穩定性和可靠性可在約50秒內(nei) 同時分析32個(ge) 通道單一分光室,方便保養(yang) 、維護原廠分析程序,可校正集體(ti) 效應和譜線幹擾使用認證標樣來標定和標準化工作曲線,保證分析的準確度光源設計緊湊,有效降低電磁幹擾,改善儀(yi) 器穩定性高質量的真空光學係統高質量的恒溫和防震性能 國產(chan) 直讀光譜儀(yi)
OES1000國產(chan) 直讀光譜儀(yi)
產(chan) 品介紹
儀(yi) 器全年工作,具有優(you) 異的穩定性和可靠性
可在約50秒內(nei) 同時分析32個(ge) 通道
單一分光室,方便保養(yang) 、維護
原廠分析程序,可校正集體(ti) 效應和譜線幹擾
使用認證標樣來標定和標準化工作曲線,保證分析的準確度
光源設計緊湊,有效降低電磁幹擾,改善儀(yi) 器穩定性
高質量的真空光學係統
高質量的恒溫和防震性能
標準配置
分析通道8個(ge)
分析軟件OES1000
測量控製箱
高壓火花電源箱
恒溫、真空係統
直聯旋片式真空泵
1kVA交流淨化電源
電腦
打印機
技術指標
分光室設計:帕邢-龍格裝置,1米焦距;根據測試需求分為(wei) 真空型、非真空型兩(liang) 種;特殊材質鑄造,保證腔室形變小
多安裝通道:32
凹麵光柵:刻線密度2160gr/mm,曲率半徑998.8mm;逆線色散率0.47nm/mm,波長範圍170-463mm
狹縫寬度:入射狹縫20μm;出射狹縫35-75μm
光電倍增管:10級側(ce) 窗型,熔融石英或玻璃外殼
分辨率:依出射譜線波長和級次而不同
分析時間:依樣品種類而不同,一般少於(yu) 50秒
激發光源:高壓火花放電,放電頻率200或400Hz,電極間距3-4mm
測光方式:分段積分法
控製係統:采用FPGA技術控製儀(yi) 器工作狀態
直讀光譜儀(yi) 用途
黑色金屬及有色金屬成分的快速定量分析
進行煉爐前的快速分析以及中心實驗室的產(chan) 品檢驗
可以用於(yu) 多種基體(ti) 分析:Al,Pb,Mg,Zn,Sn,Fe,Co,Ni,Ti,Cu等
應用領域
直讀光譜儀(yi) 廣泛應用於(yu) 鑄造,鋼鐵,金屬回收和冶煉以及*、航天航空、電力、化工、冶金、機械及其他工業(ye) 部門,高等院校和商檢,質檢等單位 。